Hohe Ätzraten beim anisotropen Plasmaätzen erreicht man insbesondere im Barrel Reaktor mit HF-Anregung im MHz-Bereich. Deshalb werden Plasmaanlagen, die primär oder ausschließlich für Plasmaätzen eingesetzt werden, bevorzugt als Barrel-Reaktoren ausgelegt. Barrel Plasma Etcher werden beispielsweise bei der Fotolackveraschung eingesetzt.
Näheres unter ⇒ Barrel-Reaktor
