Système de location NANO UHP
Le petit système NANO UHO, avec sa chambre de 18 litres et un contrôle semi-automatique, est principalement utilisé dans les domaines suivants :
- Petits ‘batchs’ de production
- Domaine analytique (MEB, MET)
- Electronique
- Technologie médicale
- Industrie Plastique
- technologie des élastomères
- Départements de Recherche et Développement
Brochure NANO
UHP pour 'Ultra High Purity' (ultra pur). Cette désignation s'applique aux chambres à vide en verre de nos systèmes plasma, elles peuvent être en verre Borosilicate ou Quartz selon la demande client. L'option UHP est disponible uniquement pour les systèmes suivants: Femto, Pico et Nano.
Les chambres en verre sont montées dans les systèmes micro-ondes et/ou dans le cadre d'applications nécessitant une surface ultra-pure. Comme tous les métaux soumis au plasma, les parois des chambres en acier inoxydable ou en aluminium subissent une très légère pulvérisation de leur surface. Pour la plupart des procédés, ce phénomène est tout à fait négligeable. Les pièces en aluminium utilisées pour les systèmes UHP sont anodisées (croissance de la couche d'Al2O3). La chambre et les autres éléments n'étant p en acier inoxydable, rend les systèmes UHP appropriés pour des applications dans lesquelles des traces de chrome, de nickel et de fer constituent une pollution.
Données techniques:
Encombrement armoire: Larg. 580 mm, Haut. 650 mm, Prof. 600 mm
Chambre: ∅ 240 mm, L 400 mm(en option: L 600 mm)Ouverture de chambre: ∅ 230 mmMatériaux de construction: Quartz ou verre borosilicateFace avant et arrière de la chambre: Aluminium
Volume de chambre: env. 18 litres
Alimentation en gaz: 2 lignes de gaz, régulation par débitmètres à flotteur à vanne pointeau.
Générateur: 40 kHz/ 0 à 300 W, continu (En option: 13.56 MHz or 2.45 GHz)
Pompe à vide: Leybold, type Trivac D 8 B (8 m3/h)
Chargement: 1 porte substrat
Contrôle: Semi-automatique, durée de procédé via timer