'Aspect ratio' que l'on pourrait traduire par "rapport d'aspect" fait référence à la relation entre la profondeur et la largeur d'une microstructure. Dans la plupart des cas, une valeur élevée de ce ratio est désirée.
Par la gravure plasma avec attaque anisotrope (Attaque ionique 'Ion etching=IE' ou Gravure ionique réactive 'Reactive Ion Etching=RIE') un 'aspect ratio' de 10 ou plus est possible.
Des valeurs extremes d'aspect ratios' de 50 avec une largeur minime de 0,2 µm des structures peut être peut être obtenue par la technologie LIGA.