Système plasma basse pression spécialement équipé pour obtenir une gravure plasma anisotrope particulièrement efficace. Habituellement, un réacteur tonneau est combiné avec un générateur plasma RF. Ces systèmes tonneau d'attaque chimique sont utilisés par exemple pour l'élimination, le 'Ashing', de Photo-résistes.
Pour d'autres détails voir ⇒ Réacteur Tonneau
