Une électrode utilisée pour l'obtention d'un plasma haute fréquence sous basse pression porte en plus de la tension alternative qui lui est appliquée, une tension continue. Cette tension continue est appelée ' bias' ou tension de polarisation.
Les ions du plasma sont accélérés par le champ électrique résultant de cette polarisation. Par conséquent, la tension de polarisation permet dirigé l'accélération des ions et conduit aux effets d'attaque anisotrope du plasma (Gravure Ionique 'Ion Etching', Gravure Ionique Réactive 'Reactive Ion Etching=RIE', "Micro Sablage").