CVD est l'acronyme de 'Chemical Vapour Deposition' pour Déposition Chimique en Phase Gazeuse, le revêtement CVD est le produit de la réaction de composés gazeux sur les surfaces d'un substrat en une couche solide. Habituellement, une haute température est nécessaire à la réaction donc une température élevée du substrat est requise. La stabilité thermique d'un grand nombre de substrats est insuffisante à l'exécution de ce procédé. Toutefois, plusieurs variantes du procédé ont été développées.
Plus particulièrement le procédé CVD activé par plasma se différencie du procédé CVD thermique "classique".
Les procédés CVD thermiques mettent en jeux chimiosynthèse, pyrolyse et dismutation.
Pour le procédé CVD activé par plasma (PACVD, PECVD) comme sa dénomination l'indique, la réaction chimique est activée par le plasma.