Les espèces actives d'un plasma à basse pression comprennent des ions, des atomes excités, des radicaux et les rayonnements U-V. Suivant le procédé, l'implication de l'ensemble de ces particules n'est pas forcément désiré. En ce sens, certains procédés ont été développés pour n'utiliser que certaines catégories de ces espèces pour traiter la surface du substrat.
Le procédé plasma downstream (en aval) est un procédé qui vise à protéger le substrat du rayonnement UV. Dans ce cas, la chambre est est divisée en deux enceintes. Chaque enceinte est protégée de l'autre. Le plasma est généré dans une enceinte tandis que le substrat est placé dans l'autre. Ion, radicaux, molécules et atomes peuvent se déplacer de l'enceinte ou ils ont été créés vers l'enceinte contenant le substrat, par contre ce dernier ne reçoit pas de rayonnement UV.