Les résines photosensibles ou photorésists sont des substances liquides ou rigides qui sont sensibles aux rayonnements électromagnétiques. Les photorésists peuvent être sensibles à la lumière visible, mais ceux utilisés pour les applications techniques sont généralement sensibles aux rayonnements UVUV-Strahlung. Les photorésists peuvent devenir solubles ou insolubles dans les solutions de développement photos aux endroits ou ils ont été exposés à la radiation.
La chimie des photorésists positifs est modifiée par le rayonnement de cette façon, il deviennent solubles une fois immergés une solution d'hydroxyde de sodium, ainsi le photorésist positif sera dissous dans les zones exposées.
les photorésists négatifs seront réticulés par rayonnement de sorte qu'ils ne sont plus solubles. Le processus de développement supprime le photorésist dans les zones non exposées et ne reste que les zones où il a été irradié.
Lorsque traité par un solvant ou par plasma, le substrat reste protégé donc inchangé en dessous le photorésist. Les zones à traiter ou à protéger sont sélectionnées par un photo-masque. Le photorésist peut être éliminé d'un substrat par une lyse, une destruction par plasma 'ashing'.