Le traitement plasma occupe une place importante dans la structuration des circuits électroniques obtenus par le procédé de photolithographie.
Après déposition du circuit le photorésist doit être éliminé par un procédé sélectif lequel doit effectivement éliminer le photorésist mais ne pas attaquer le circuit. Le procédé plasma 'crack' le photorésist en petits segment moléculaires volatiles évacués par la pompe à vide.
Ce procédé est communément appelé 'plasma ashing' ou 'plasma stripping'.
