Procédé pour éliminer du matériau depuis la surface d'un solide, habituellement causé par réaction chimique. Cependant, certains procédés utilisant uniquement l'effet physique sont désignés comme procédé de gravure (gravure Physique, Gravure Ionique; 'Ion Etching').
Les procédés spécifiques de gravure 'Etching' sont:
- Nettoyage de surface élimination des couches d'oxyde et autres couches adhérentes.
- Changement de la structure de la surface pour par exemple des motivations optiques (création d'une surface mat) ou pour augmenter la surface effective suite à la rugosité pour une meilleur adhérence.
- Pour créer des structures géométriques en masquant certaines parties de la surface avant le commencement du processus de gravure, ainsi les surface masquées ne seront pas affectées par la gravure 'Etching'
La gravure est exécutée dans des substances liquides réactives (Voie Humide) Traitement Plasma (Gravure Plasma - Plasma Etching) avec des gaz de procédé appropriés.
Quelques exemples de matériaux gravés par Plasma sont le Silicium, SiO2 et Si4N3 dans le domaine des micro-techniques, les métaux couverts d'une couche d'oxyde et les matériaux plastiques lorsque l'adhésion obtenue par Activation Plasma n'est pas suffisante (par exemple PTFE)
