Procédé plasma de traitement de surfaces métalliques. La première étape est un nettoyage plasma par bombardement ionique. Ensuite, les vapeurs métalliques générées dans un évaporateur et partiellement ionisées par plasma sont introduites dans la chambre de déposition, elles sont accélérées par une tension de polarisation négative, en direction du substrat préchauffé. Ainsi, une couche de métal évaporé croit en surface du substrat, simultanément la couche en croissance et le substrat continuent à être pulvérisées par le bombardement ionique. La structure de la couche résultante est fortement dépendante de la température du substrat.