Rimozione di materiale da una superficie solida, in particolare mediante etching al plasma. Vari processi al plasma come etching chimico, etching ionico, etching ionico reattivo o micro-sabbiatura sono in grado di rimuovere molecole o stratti superficiali di molecole di una superficie. La velocità di rimuozione degli strati superficiali viene chiamata tasso di ablazione.
