Nel metodo CVD, una miscela di gas viene introdotta nello spazio di reazione, che forma il solido da una reazione chimica a temperatura elevata e si riflette sul materiale di base, sotto l'azione catalitica della superficie del substrato. Ci sono diverse varianti di questo processo. Tra l'altro, viene fatta una distinzione tra processi termici e CVD CVD a plasma attivata (PA-CVD). I principali tipi di reazioni del primo metodo sono chemiosintesi, pirolisi e disproporzionamento. Nel processo PA-CVD, le reazioni chimiche sono attivate da un plasma. Oltre alla denominazione PACVD, nella letteratura inglese esiste anche il termine PE-CVD (PECVD, plasma enhanced CVD).
