Si3N4, amorphes, hartes und chemisch resistentes Material, dient als Diffusions-Barriere gegen Wasser und Alkaliionen. Herstellung im PACVD-Verfahren aus SiH4 und NH3, große Bedeutung in der Halbleiter-Technik.
Si3N4, amorphes, hartes und chemisch resistentes Material, dient als Diffusions-Barriere gegen Wasser und Alkaliionen. Herstellung im PACVD-Verfahren aus SiH4 und NH3, große Bedeutung in der Halbleiter-Technik.