SiO2, häufigste Verbindung der Erdkruste, hart und thermisch beständig, sehr guter Isolator. Sehr häufiger Einsatz in der Mikroelektronik als Isolator-Schicht, meist hergestellt durch Oxidation von reinem Silizium. Kann mittels Halogen- (insbesondere Fluor-) haltiger Gase im Plasma geätzt werden, wodurch das darunterliegende Silizium wieder freigelegt wird.
Siliziumdioxid
