Mietanlage PICO UHP - steht kurzfristig zur Verfügung
Die Kleinanlage PICO UHP mit ihren vier Litern Kammervolumen und halbautomatischer Steuerung kommt vorwiegend in folgenden Bereichen zum Einsatz:
- Kleinserienfertigung
- Analytik (REM, TEM)
- Medizintechnik
- Forschungs- und Entwicklungsabteilungen
- Halbleitertechnik
- Kunststofftechnik
Prospekt PICO
UHP steht für Ultra High Purity. Diese Bezeichnung gilt für die Glasrezipienten unserer Plasmaanlagen, diese können je nach Kundenwunsch aus Borosilikatglas oder Quartzglas sein. die Option UHP ist nur für folgende Anlagen erhältlich: Femto, Pico und Nano.
Eingesetzt werden Glaskammern in Mikrowellenanlagen und/oder bei Anwendungen, bei denen eine ultrareine Oberfläche, erforderlich ist. Normale Edelstahl- oder Aluminiumkammern können, wie alle Metalle in einer Plasmaanlage, also auch das Behandlungsgut, in geringsten Mengen sputtern. Für die meisten Prozesse ist das nicht von Bedeutung und absolut vernachlässigbar. Die Aluminiumbauteile aus der UHP-Anlage sind mit AL2O3 beschichtet. Da die Anlage keinen Edelstahl-Rezipienten besitzt, ist sie für Anwendungen geeignet, bei denen Spuren von Chrom, Nickel und Eisen störend sind.
Technische Daten:
Schaltschrank:
B 550 mm, H 330 mm, T 500 mm
Kammer:
∅ 130 mm, L 300 mm
Kammeröffnung: ∅ 125 mm
Werkstoffe: Quarz- oder Borosilikatglas
Vorder- und Rückwand der Kammer: Aluminium
Kammervolumen:
ca. 4 Liter
Gaszuführung:
2 Gaskanäle über Nadelventil
Generator:
40 kHz / 100 W, stufenlos
(optional: 13,56 MHz oder 2,45 GHz)#
Vakuumpumpe:
Leybold, Typ Trivac D 2,5B (2,5 m3/h)
Teile-Aufnahme:
1 St. Warenträger
Steuerung:
halbautomatisch, Prozesszeit über Timer