1.如何通过等离子体进行蚀刻?
进行等离子体蚀刻的时候,会使用能够将待蚀刻材料转换为气相的工艺气体。含大量基料的气体会被抽走,并通入新的工艺气体。 这样便可以达到连续清除的目的。通过使用抗所用工艺气体的蚀刻掩模(例如,铬),可以对该区域施以保护。这样便可以针对性的勾勒表面。在纳米范围内进行这种勾勒处理。
进行等离子体蚀刻的时候,会使用能够将待蚀刻材料转换为气相的工艺气体。含大量基料的气体会被抽走,并通入新的工艺气体。 这样便可以达到连续清除的目的。通过使用抗所用工艺气体的蚀刻掩模(例如,铬),可以对该区域施以保护。这样便可以针对性的勾勒表面。在纳米范围内进行这种勾勒处理。
应用用途 | 组别 | 材料 | 气体类型 | 压力 [mbar] | 功率 [%] | 时间 [min] |
---|---|---|---|---|---|---|
蚀刻 | 金属 | 铝 | CCl4 | 0,2 - 0,5 | 100 | 30 - 120 |
铝 | BCl3 | 0,2 - 0,5 | 100 | 30 - 120 | ||
钛 | NF3 | 0,1 - 0,4 | 100 | 30 - 120 | ||
塑料 | POM | O2 / O2+CF4 | 0,1 - 0,4 | 100 | 30 - 120 | |
PPS | O2 | 0,1 - 0,4 | 100 | 30 - 120 | ||
PTFE | H2 | 0,2 - 0,5 | 100 | 20 - 120 | ||
其他 | Al2O3 | Cl2+Ar | 0,1 - 0,6 | 100 | 30 - 120 | |
SiO2 | CF4 | 0,1 - 0,3 | 100(含 RIE) | 30 - 120 |
原则上是可以对金属进行蚀刻的,当然必须使用高腐蚀性气体才可以,但是金属也会被其所腐蚀。为了增强蚀刻效果,可以对零部件进行预热处理 - 或者在等离子设备中安装了腔室型加热器的情况下 - 进行连续加热处理。
组别 | 材料 | 气体类型 | 压力 [mbar] | 功率 [%] | 时间 [min] |
---|---|---|---|---|---|
金属 | 铝 | Ar (溅射蚀刻) | 0,2 - 0,5 | 100 | 30 - 120 |
银 | Ar | 0,1 - 0,4 | 100 | 30 - 120 | |
钛 | NF3 | 0,1 - 0,4 | 100 | 30 - 120 |
包括功率和时间在内的工艺参数必须在考虑设备规格(发生器型号和强度、电极结构)和工件材料特性的前提下进行调节。
主要是塑料表面可以用这种工艺方法进行蚀刻。
对于诸如 POM、PPS 和 PTFE 之类难以上漆和粘合的塑料而言,蚀刻是非常重要的。增加表面面积,可以获得更好的粘合附着性能。
典型的蚀刻气体是氧气、各种氟/氯气体化合物,还包括氢气。
组别 | 材料 | 气体类型 | 压力 [mbar] | 功率 [%] | 时间 [min] |
---|---|---|---|---|---|
塑料 | POM | O2 / O2 + CF4 | 0,1 - 0,4 | 100 | 30 - 120 |
PPS | O2 | 0,1 - 0,4 | 100 | 30 - 120 | |
PTFE | H2 | 0,2 - 0,5 | 100 | 20 - 120 |
(包括功率和时间在内的工艺参数必须在考虑设备规格(发生器型号和强度、电极结构)和工件材料特性的前提下进行调节)。
在真空环境下对玻璃进行等离子蚀刻是极为费时和昂贵的。通过电离气体粒子,只能缓慢的对玻璃进行降解。玻璃主要是由 SiO2 组成的,故此原则上可以用氟代烃(在添加氧气的情况下)对其进行蚀刻。
由于腐蚀速率较低,从而导致工艺时间较长,这是这种工艺方法成本较高的主要原因。
陶瓷(例如: Al2O3)可以用腐蚀性或非腐蚀性气体进行蚀刻。
所有含氯和含氟气体均属于腐蚀性气体。氩气属于非腐蚀性气体。
通常而言,含氟气体的腐蚀速率比其他非腐蚀性气体更高,而含氯气体的蚀刻效果则比非腐蚀性气体更好。
Al2O3最好用含氟气体进行蚀刻。
组别 | 材料 | 气体类型 | 压力 [mbar] | 功率 [%] | 时间 [min] |
---|---|---|---|---|---|
其他 | Al2O3 | CF4 | 0,1 - 0,6 | 100 | 30 - 120 |
SiO2 | CF4 | 0,1 - 0,3 | 100(含 RIE) | 30 - 120 |
(包括功率和时间在内的工艺参数必须在考虑设备规格(发生器型号和强度、电极结构)和工件材料特性的前提下进行调节)。
更多信息请参见章节“应用用途”。