PlasmaBeam
Femto PCCE Dental
Tetra 2800
PlasmaBeam Duo
Plasma Indikator Etiketten
Pumpe
MW1200
LFG3000
Diener 等离子设备具有不同的设计结构。我们为每种所需的工艺、每种规格、每种控制系统和其他因素都提供相应的解决方案。
为了配合我们等离子设备的产品组合,我们还提供了发生器、等离子指示标签、等离子清洗源和真空泵。从而确保了完美的工艺处理流程。
我们的等离子设备分为两类 - 低压等离子体和常压等离子体。这两种等离子体类型之间的对比,请参见此处。我们的等离子设备的技术和理念都极为成熟,您可从中受益。